Intel:對14nm工藝很滿意 再用12-18個月
發(fā)表時間:2023-05-31 來源:本站整理相關(guān)軟件相關(guān)文章人氣:
Intel今天宣布在以色列投資50億美元升級晶圓廠,此舉意味著10nm工藝已經(jīng)提速,不過Intel的投資計劃需要兩年時間,而且目前10nm工藝良率問題還沒徹底解決。
我們已經(jīng)知道,14nm還將是Intel處理器的主力,現(xiàn)在的問題是14nm還要持續(xù)多久?
Intel副總裁今天在參加會議時提到在未來12-18個月內(nèi),14nm工藝還會繼續(xù)改良,目前其性能已經(jīng)提升了70%。

Intel高級副總裁Murthy Renduchintala日前參加了JP摩根第46屆全球技術(shù)、媒體及通訊會議,分析師在這次會議上咨詢了很多有關(guān)Intel 10nm工藝延期的問題。
他首先解釋了Inte l10nm工藝為什么這么難纏的問題。
早在2014年Intel首次定義10nm工藝時,他們提出了非常苛刻的目標——相比14nm工藝,10nm工藝的換算因數(shù)要達到2.7倍(scaling factor,衡量工藝先進與否的一個重要指標就是縮小到上一代的多少倍)。
而在22nm工藝升級到14nm時,新工藝的換算因素只是2.4倍,所以在10nm節(jié)點上Intel的團隊具有非常宏偉的雄心壯志。
要想實現(xiàn)這樣的目標,就需要很多的創(chuàng)新,因此Intel在這個過程中遇到了更多的挑戰(zhàn),Renduchintala強調(diào)他們遇到的問題主要是良率上的,并非根本性問題。Intel知道如何解決問題,目前正在集中精力解決這些問題。
與此同時,他們也發(fā)現(xiàn)了14nm工藝還會潛力可挖。Renduchintala表示,從第一代14nm工藝到最新一代14nm工藝,其性能已經(jīng)提升了70%,這也給了Intel公司更多空間去解決10nm工藝的良率問題。
至于未來的情況,Renduchintala強調(diào)他們還會不斷努力解決10nm工藝的良率問題,也對14nm處理器路線圖感覺滿意,在未來12-18個月還會讓它們繼續(xù)保持領(lǐng)先。
